拋光液的基礎(chǔ)制作原料有哪些?

拋光液的基礎(chǔ)制作原料通常包含水、拋光粉以及一些化學(xué)物質(zhì)。水作為溶劑,承擔(dān)著溶解其他原料的重要作用。拋光粉則是去除物體表面細微劃痕與氧化層的關(guān)鍵,且需根據(jù)被拋光物體的表面材料及顏色等因素合理挑選。此外,為提升拋光液性能,還會添加黏合劑、防氧化劑等化學(xué)物質(zhì) ,這些原料相互配合,共同造就了拋光液良好的使用效果。

常見配方原料用量一般為:水5L、堿性硅油5g、聚磷酸50g、二硫仙10g、安定劑5g 。當(dāng)然,不同類型的拋光液,配方也有差異。

比如不銹鋼拋光液,就有著不同的配方。一種配方中,原料及投料量g/L如下:聚乙二醇4000為20 - 50、對羥基苯甲酸是10 - 30等;另一種配方投料量g/L為檸檬酸100 - 200、磷酸二氫鹽200 - 300等。這些不同的配方,是根據(jù)不銹鋼的特性以及不同的使用場景和需求精心調(diào)配的。

拋光液中的主要成分還包括氧化鋁、氧化鐵、硅砂等。氧化鋁能增加表面的硬度和平整度,有效去除表面的細小劃痕和瑕疵,使表面更加光滑,同時提高光澤度;氧化鐵不僅能增加表面硬度和耐磨性,還能提升光澤度,讓表面更加平整;硅砂??善鸬侥ハ骱腿コ砻骐s質(zhì)的作用,不同顆粒大小適用于不同的拋光處理場合。

此外,拋光液里還有溶劑、乳化劑、表面活性劑等其他成分。它們能使拋光液更易于使用,提高拋光效果和穩(wěn)定性。在CMP液中,配方設(shè)計更為專業(yè),核心組分有研磨顆粒,像膠體二氧化硅、氣相二氧化硅、氧化鋁等,提供機械“打磨”能力;化學(xué)試劑包括氧化劑、絡(luò)合劑等,提高材料“可拋性”;腐蝕抑制劑防止非目標(biāo)區(qū)域腐蝕;溶劑一般為高純水,用于分散其他組分形成穩(wěn)定體系。

總之,拋光液的基礎(chǔ)制作原料豐富多樣,不同的原料有著各自獨特的作用。它們在不同類型的拋光液配方中相互搭配、協(xié)同工作,以滿足各種不同的拋光需求,為各類物體表面處理帶來理想的效果。

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